电子工业中使用的气体氮（通常为高纯度氮气）在半导体制造、集成电路封装、液晶显示器（LCD）生产、光刻工艺、化学气相沉积（CVD）等过程中起着关键作用。其纯度直接影响产品的质量和良率，因此对氮气的纯度检测至关重要。 一、电子工业用气体氮的主要用途

　　1. 惰性保护气体 ：用于防止氧化、腐蚀和污染。

　　2. 载气 ：在气相色谱、质谱分析中作为载气使用。

　　3. 吹扫气体 ：用于清洗设备或管道中的杂质。

　　1. 气相色谱法（GC） 原理：利用不同气体组分在色谱柱中的保留时间差异进行分离和定量分析。 优点：精度高、可检测微量杂质（如氧气、氢气等）。 常用检测器：TCD（热导检测器）、FID（火焰离子化检测器）、ECD（电子捕获检测器）等。

　　2. 质谱法（MS） 原理：将气体分子电离后按质荷比（m/z）进行分离和检测。 优点：灵敏度高，可同时检测多种杂质成分。 常用于痕量杂质分析（如ppb级）。

　　3. 红外光谱法（IR） 原理：通过气体对特定波长红外光的吸收来判断其浓度。 适用于检测CO、CO?、CH?等气体。

　　4. 电化学传感器 用于检测CO等气体。 优点：响应快、体积小、适合在线监测。

　　5. 露点仪 用于检测氮气中的水分含量（即露点值）。 对于某些应用（如真空系统），水分含量必须控制在极低水平（如 60℃以下）。 四、常见的杂质及检测项目 | 杂质种类 | 检测目的 | 检测方法 | | 氧气 | 防止氧化反应 | GC、电化学 | | 氢气 | 防止爆炸风险 | GC | | 二氧化碳 | 影响反应环境 | GC、IR | | （CO） | 影响材料性能 | GC、MS | | 水分 | 影响设备寿命 | 露点仪、卡尔费休法 | | 烃类（如甲 、乙 ） | 污染反应环境 | GC、MS | | 金属颗粒 | 影响洁净度 | 过滤器+显微镜检测 | 五、标准与规范 GB/T 8979 2008 《高纯氮》：中国国家标准，规定了高纯氮的技术指标。 AS D6493 ：美国材料与试验协会关于高纯气体的标准。 SEMI G11 ：半导体行业标准，涉及气体纯度要求。 ISO 10251 ：国际标准化组织关于气体纯度的检测标准。 六、检测流程建议

　　1. 采样 ：使用不锈钢或特氟龙管路采集样品，避免污染。

　　2. 预处理 ：必要时进行除湿、过滤等处理。

　　4. 数据分析 ：对比标准限值，判断是否合格。